ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备

导读：

美国在2022年8月通过了芯片与科学法案后，美国商务部（BIS）禁止美国供应商若向中国本土芯片制造商出售尖端生产设备，生产18纳米或以下的DRAM芯片、128层或以上的NAND闪存芯片、14纳米或以下的逻辑芯片，必须申请许可证并将受到严格审查。而在这一禁令要求后,相关半导体设备制造商也陆续研拟相关对应管制办法。其中ASML在2023年3月9日回应并提出其管制新规,而管制措施将侧重于先进的芯片制造技术，并不针对所有浸润式光刻系统, 而针对满足成熟制程为主的浸润式DUV 1980Di将不在限制中。而此新规也呼应了美国商务部禁令中的要求。在禁售DUV 2000i和2050i 后,再加上对美国应用材料与美国柯林研发等设备商相关禁售条件的要求下, 这等于掐住了国内芯片制造商往高阶制程工艺发展的可行性。反观对于新兴存储中的相变存储,其具有在存储单元尺寸及嵌入式的优势，在目前20nm以上工艺节点还有多年及多方面应用的发展空间。

3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”

荷兰政府在3月8日表示，计划对半导体技术出口实施新的管制。据悉，决定是由荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在致荷兰议会的一封信中宣布的。信中称，这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。

信中还指出“荷兰认为有必要以最快的速度对这项技术进行监管，因此荷兰政府将会尽快出台一份国家管控清单”。

尽管信中并没有指名道姓地点出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

ASML表示，由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于相关的公告、对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，预计这些管制措施不会对ASML已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。

ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。

ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。

此外，ASML指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求，并称该公司A长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。

ASML此前预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右。

ASML声明如下：

荷兰政府于今日发布了有关即将出台的半导体设备出口管制措施的进一步的信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。

这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。

基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。

需要重点指出的是：新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管我们尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，我们将其解读为我们在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外，我们要指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后，ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。

自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。

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